中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
半导体激光器及其制造方法

文献类型:专利

作者奥田哲朗
发表日期2016-05-11
专利号CN105576503A
著作权人瑞萨电子株式会社
国家中国
文献子类发明申请
其他题名半导体激光器及其制造方法
英文摘要本发明涉及半导体激光器及其制造方法。为了改进半导体激光器的特性,块层被设置于具有n型包覆层、有源层和p型包覆层的台面型半导体部分的两侧。该块层具有:形成于台面型半导体部分的侧表面上以及于p型半导体基板之上的p型块层;形成于p型块层之上的高电阻层;以及形成于高电阻层之上的n型块层。高电阻层的电阻大于p型块层的电阻。通过这样在形成块层的p型块层和n型块层之间设置高电阻层,能够控制p型块层的厚度使其不变大,并且能够减小漏电流(空穴流)。此外,能够确保n型包覆层与n型块层之间的距离,并且因此能够防止漏电流(电子流)。
公开日期2016-05-11
申请日期2015-10-30
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91023]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位瑞萨电子株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
奥田哲朗. 半导体激光器及其制造方法. CN105576503A. 2016-05-11.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。