積層導波路およびその作製方法
文献类型：专利
| 作者 | 八木 生剛; 小林 潤也; 長瀬 亮 |
| 发表日期 | 2008-04-10 |
| 专利号 | JP2008083205A |
| 著作权人 | 日本電信電話株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 積層導波路およびその作製方法 |
| 英文摘要 | 【課題】光の伝送経路が2つ以上あり、それらの伝送経路のうちある伝送経路が他の伝送経路を横切る場合であっても、クロストークの増加を抑えることが可能な積層導波路およびその作製方法を提供すること。 【解決手段】第1の導波層36と、第2の導波層37とは積層されている。積層導波路は、VCSELアレイ31aとPDアレイ32aとの間で光を伝送させる第1の伝送経路と、VCSELアレイ31bとPDアレイ32bとの間で光を伝送させる第2の伝送経路と、第1の伝送経路に含まれ、第1の導波層36に形成された高分子導波路33aと、第2の伝送経路に含まれ、第2の導波層37に形成された高分子導波路34bと備える。第1の伝送経路と前記第2の伝送経路とは、該第1の伝送経路と第2の伝送経路が交差する交差領域38を有し、交差領域38における、第1の伝送経路が高分子導波路33aであり、第2の伝送経路が高分子導波路34bである。 【選択図】図3 |
| 公开日期 | 2008-04-10 |
| 申请日期 | 2006-09-26 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91063]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 日本電信電話株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 八木 生剛,小林 潤也,長瀬 亮. 積層導波路およびその作製方法. JP2008083205A. 2008-04-10. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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