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氮化物半导体激光器元件及其制作方法

文献类型:专利

作者近江晋; 高谷邦启; 山下文雄; 种谷元隆
发表日期2007-06-13
专利号CN1979984A
著作权人夏普株式会社
国家中国
文献子类发明申请
其他题名氮化物半导体激光器元件及其制作方法
英文摘要在衬底上形成的氮化物半导体分层部分上,以此顺序形成绝缘膜和p侧电极。此外,在p侧电极之上、将发生解理的位置周围形成端部电极保护层。
公开日期2007-06-13
申请日期2006-12-05
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91204]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位夏普株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
近江晋,高谷邦启,山下文雄,等. 氮化物半导体激光器元件及其制作方法. CN1979984A. 2007-06-13.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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