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一种半导体激光器腔镜制备方法

文献类型:专利

作者吴建耀; 宋克昌; 杨国文
发表日期2015-02-25
专利号CN104377543A
著作权人西安立芯光电科技有限公司
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种半导体激光器腔镜制备方法
英文摘要本发明属于半导体表面改性技术领域,具体涉及一种半导体激光器腔镜制备方法,包括以下步骤:步骤一,清洁;步骤二,钝化改性;步骤三,介质膜镀膜;步骤四,翻转,重复步骤一到步骤三,步骤五,移出;该半导体激光器腔镜改性方法,可以兼容化学和物理表面改性技术,提高了表面处理的选择性和完整性;使表面清洁,钝化改性和双面腔镜介质膜镀膜在同一真空腔中一次完成,减少了样品进出操作次数和可能带来的污染和损坏,提高了成本率,并极大提高了生产效率;本方法在同一设备基础上集成了表面清洁,改性钝化和介质膜技术,使表面处理各步骤建立了无缝衔接,提高了成品的性能以及成品率;更进一步,双端面介质膜腔镜的处理也一步完成,更强化了生产效率和质量稳定性;本方法适合批量处理,生产效率高,综合成本低。
公开日期2015-02-25
申请日期2014-11-14
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91473]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位西安立芯光电科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
吴建耀,宋克昌,杨国文. 一种半导体激光器腔镜制备方法. CN104377543A. 2015-02-25.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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