光伝送装置および製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 吉田 英司; 清水 貴志; 松井 潤; 山本 毅 |
| 发表日期 | 2016-02-04 |
| 专利号 | JP2016021493A |
| 著作权人 | 富士通株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 光伝送装置および製造方法 |
| 英文摘要 | 【課題】電子回路の発熱による光電変換素子の特性劣化を抑えること。 【解決手段】VCSEL160は、CMOSチップ110の面に対してバンプ104,105を介して電気的に接続されている。ヒートインシュレータ173は、CMOSチップ110とVCSEL160との間に設けられ、CMOSチップ110からVCSEL160への熱移動を遮る。クーリングプレート171は、CMOSチップ110とヒートインシュレータ173との間に設けられCMOSチップ110を冷却する。クーリングプレート172は、ヒートインシュレータ173とVCSEL160との間に設けられVCSEL160を冷却する。 【選択図】図1A |
| 公开日期 | 2016-02-04 |
| 申请日期 | 2014-07-14 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91816]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 富士通株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吉田 英司,清水 貴志,松井 潤,等. 光伝送装置および製造方法. JP2016021493A. 2016-02-04. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。