曝光头及曝光装置和它的应用
文献类型：专利
| 作者 | 石川弘美; 永野和彦; 冈崎洋二; 藤井武; 山川博充 |
| 发表日期 | 2005-08-24 |
| 专利号 | CN1659479A |
| 著作权人 | 富士胶片株式会社 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 曝光头及曝光装置和它的应用 |
| 英文摘要 | 本发明的曝光头及曝光装置，对于空间调制元件，将个数少于排列在其基板上的象素部的总个数的多个象素部分别利用根据曝光信息制成的控制信号来控制。由于不对排列在基板上的象素部的全部进行控制，因此所控制的象素部的个数变少，控制信号的传送速度加快。这样就可以加快激光的调制速度，从而可以实现高速曝光。作为激光装置，通过使用包括将激光合波而向光纤入射的合波激光光源的光纤阵列光源，可以获得高亮度、高输出，特别在半导体激光器中十分有效。另外，由于可以减少阵列化的光纤的条数，因此成本低，可以缩小阵列化时的发光区域。本发明的曝光装置可以应用于光造型装置等多种用途中。 |
| 公开日期 | 2005-08-24 |
| 申请日期 | 2003-04-09 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91846]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 富士胶片株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 石川弘美,永野和彦,冈崎洋二,等. 曝光头及曝光装置和它的应用. CN1659479A. 2005-08-24. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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