一种消除波长双峰的808nm激光器及其制备方法
文献类型：专利
| 作者 | 苏建; 朱振; 李沛旭; 于果蕾; 徐现刚 |
| 发表日期 | 2015-11-18 |
| 专利号 | CN105071220A |
| 著作权人 | 山东华光光电子股份有限公司 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 一种消除波长双峰的808nm激光器及其制备方法 |
| 英文摘要 | 本发明涉及一种消除波长双峰的808nm激光器及其制备方法，包括：在激光器芯片的N面电极制备孔；将处理后的激光器芯片放置在金属板上，所述激光器芯片的含孔一面与所述金属板背离设置；采用808nm波长的激光对所述激光器芯片进行照射；将处理后的激光器芯片进行烘烤，温度范围120-150℃，烘烤1-2小时；对激光器芯片封装测试，完成制备。本发明所述消除波长双峰的808nm激光器，其结构简易，制作过程简单，通过在所述激光器芯片的N面电极上制备孔、后续采用激光照射和烘烤处理，进而减小激光器芯片受内部压应力影响，使激光器波长双峰减少，大大提高了激光器生产合格率。 |
| 公开日期 | 2015-11-18 |
| 申请日期 | 2015-08-28 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92048]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 山东华光光电子股份有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 苏建,朱振,李沛旭,等. 一种消除波长双峰的808nm激光器及其制备方法. CN105071220A. 2015-11-18. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。