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Si基垂直腔面发射芯片

文献类型:专利

作者张子旸; 王旭; 王美芳; 刘永刚
发表日期2018-03-02
专利号CN107749565A
著作权人江苏点晶光电科技有限公司
国家中国
文献子类发明申请
其他题名Si基垂直腔面发射芯片
英文摘要本发明公开了一种Si基垂直腔面发射芯片,结构包括从下到上排列的n型电极,衬底,缓冲层,位于衬底上的下分布式布拉格反射镜,位于下分布式布拉格反射镜上的有源区,位于有源区上的上分布式布拉格反射镜,位于上分布式布拉格反射镜上的p型电极以及位于圆柱形台面周围的SiO2限制层。本发明在n型硅基板上制备硅掺杂的(AlxGa1‑x)2O3、(AlyGa1‑y)2O3叠层结构作为下分布式布拉格反射镜,并采用稀土掺杂的Ga2O3作为n型发光材料,以GaAs、AlGaAs或InP、InGaAsP叠层结构作为上分布式布拉格反射镜。作为本发明所述的硅基垂直腔面面发射光源,具有高热稳定性,高化学稳定性,且制备方法简单,可靠性高。
公开日期2018-03-02
申请日期2017-11-27
状态申请中
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92169]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位江苏点晶光电科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
张子旸,王旭,王美芳,等. Si基垂直腔面发射芯片. CN107749565A. 2018-03-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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