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硅基混合集成激光器阵列及其制备方法

文献类型:专利

作者郑婉华; 王海玲; 王明金; 石涛; 孟然哲
发表日期2019-04-02
专利号CN109560462A
著作权人中国科学院半导体研究所
国家中国
文献子类发明申请
其他题名硅基混合集成激光器阵列及其制备方法
英文摘要本发明公开了一种硅基混合集成激光器阵列及其制备方法。硅基混合集成激光器阵列包括:制作在SOI基底和III‑V半导体外延层上的多个平行排布的硅基混合集成激光器;其中,每个硅基混合集成激光器包括:硅脊波导;导热层,位于硅脊波导两侧的特定区域内,该特定区域为SOI基底去除顶层硅和埋氧层之后获得的区域;本征层,形状为马鞍形,包括两端的突出部和连接部,其中一两端的突出部覆盖于导热层上方;本征层连接部上依次有N型波导层、有源区、P型盖层;III‑V波导,由III‑V半导体外延层图案化形成,与硅脊波导相连接;P型欧姆接触层,P电极以及N电极。散热性好,制备工艺简单稳定、重复性好、制作成本低。
公开日期2019-04-02
申请日期2017-09-27
状态申请中
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92368]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
郑婉华,王海玲,王明金,等. 硅基混合集成激光器阵列及其制备方法. CN109560462A. 2019-04-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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