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一种多腔耦合增强的纳米等离子体激光器阵列及其制备方法

文献类型:专利

作者关宝璐; 张成龙; 杨悦; 吴宇辰
发表日期2019-05-31
专利号CN109830886A
著作权人北京工业大学
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种多腔耦合增强的纳米等离子体激光器阵列及其制备方法
英文摘要一种多腔耦合增强的纳米等离子体激光器阵列及其制备方法,属于光学技术领域。包括半导体衬底,半导体增益谐振腔,绝缘介质层(3),金属包裹层,在半导体衬底上有半导体增益谐振腔阵列,即在半导体衬底和半导体增益谐振腔阵列的表面设有绝缘介质层,绝缘介质层将每个半导体增益谐振腔包裹,同时绝缘介质层还保持半导体增益谐振腔阵列的图形,即形成半导体增益谐振腔‑绝缘介质层阵列,在绝缘介质层上设有金属包裹层,同时金属包裹层还填充了绝缘介质层上的阵列图形。本发明相邻谐振腔之间的表面等离子模式(倏逝波)相互之间可以进行互相耦合,从而提高了纳米激光器的性能,并实现超高密度等离子体激光器面阵输出。
公开日期2019-05-31
申请日期2019-03-19
状态申请中
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92400]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位北京工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
关宝璐,张成龙,杨悦,等. 一种多腔耦合增强的纳米等离子体激光器阵列及其制备方法. CN109830886A. 2019-05-31.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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