无掩模曝光装置
文献类型：专利
| 作者 | 押田良忠; 内藤芳达; 铃木光弘 |
| 发表日期 | 2009-09-09 |
| 专利号 | CN101526743A |
| 著作权人 | 日立比亚机械股份有限公司 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 无掩模曝光装置 |
| 英文摘要 | 本发明提供在把多个半导体激光器用作光源的场合也能够使从各半导体激光器出射的光束的光轴高效地平行的无掩模曝光装置。对多个激光光源(LD)(12)的每个设置把激光光束的出射角度调整到所希望的角度的整形透镜(13)、由调整透镜(2011、2012)及可使调整透镜(2012)定位于相对于该光轴成直角方向的调整透镜(2012)的保持机构所组成的光束角度调整机构(2)，将光束角度调整机构(2)配置在激光光源(12)和轴间距变换装置(14)之间使得调整透镜(2011、2012)的光轴与激光光源(12)的设计上的光轴平行，通过使调整透镜(2012)移动到相对于该光轴成直角的方向，使激光光束的光轴与设计上的光轴平行。 |
| 公开日期 | 2009-09-09 |
| 申请日期 | 2009-02-13 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92847]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 日立比亚机械股份有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 押田良忠,内藤芳达,铃木光弘. 无掩模曝光装置. CN101526743A. 2009-09-09. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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