离子束辅助薄膜沉积
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张宇峰2; 张溪文2; 任兆杏3; 韩高荣2 |
| 刊名 | 材料导报
 |
| 出版日期 | 2003 |
| 卷号 | 017 |
| 关键词 | 离子束辅助薄膜沉积 IBAD 薄膜制备 等离子体 光学性能 |
| ISSN号 | 1005-023X |
| 其他题名 | Ion Beam Assisted Thin Film Deposition |
| 英文摘要 | 离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法，可在低温下合成致密、均匀的薄膜。介绍了IBAD技术的概况，列举了具体应用领域，描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发，最后对IBAD的前景加以评论。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:1213549 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/51573]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 作者单位 | 1.浙江大学 2.浙江大学 3.浙江大学 4.中国科学院等离子体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张宇峰,张溪文,任兆杏,等. 离子束辅助薄膜沉积[J]. 材料导报,2003,017. |
| APA | 张宇峰,张溪文,任兆杏,&韩高荣.(2003).离子束辅助薄膜沉积.材料导报,017. |
| MLA | 张宇峰,et al."离子束辅助薄膜沉积".材料导报 017(2003). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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