化学沉积Co-B纳米晶合金工艺的研究
文献类型:期刊论文
作者 | 舒霞2; 吴玉程2; 张勇2![]() ![]() |
刊名 | 电镀与环保
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出版日期 | 2004 |
卷号 | 024 |
关键词 | 纳米晶 合金涂层 制备方法 钴硼合金 化学沉积工艺 温度 沉积速率 |
ISSN号 | 1000-4742 |
英文摘要 | 采用正交实验法探索了化学沉积钴硼合金纳米晶涂层的制备工艺,并对其沉积速率进行了研究,从而得出较优的工艺参数,同时详细讨论了硫酸钴、酒石酸钠、DMAB(二甲基胺硼烷)、温度等因素对沉积速率的影响。 |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:1593339 |
源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/52251] ![]() |
专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
作者单位 | 1.合肥工业大学,材料科学与工程学院 2.合肥工业大学,材料科学与工程学院 3.合肥工业大学,材料科学与工程学院 4.中国科学院固体物理研究所 5.合肥工业大学,材料科学与工程学院 6.合肥工业大学,材料科学与工程学院 7.中国科学院固体物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 舒霞,吴玉程,张勇,等. 化学沉积Co-B纳米晶合金工艺的研究[J]. 电镀与环保,2004,024. |
APA | 舒霞.,吴玉程.,张勇.,郑玉春.,王文芳.,...&李广海.(2004).化学沉积Co-B纳米晶合金工艺的研究.电镀与环保,024. |
MLA | 舒霞,et al."化学沉积Co-B纳米晶合金工艺的研究".电镀与环保 024(2004). |
入库方式: OAI收割
来源:合肥物质科学研究院
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