中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
化学沉积Co-B纳米晶合金工艺的研究

文献类型:期刊论文

作者舒霞2; 吴玉程2; 张勇2; 郑玉春2; 王文芳2; 黄新民2; 李广海2
刊名电镀与环保
出版日期2004
卷号024
关键词纳米晶 合金涂层 制备方法 钴硼合金 化学沉积工艺 温度 沉积速率
ISSN号1000-4742
英文摘要采用正交实验法探索了化学沉积钴硼合金纳米晶涂层的制备工艺,并对其沉积速率进行了研究,从而得出较优的工艺参数,同时详细讨论了硫酸钴、酒石酸钠、DMAB(二甲基胺硼烷)、温度等因素对沉积速率的影响。
语种中文
CSCD记录号CSCD:1593339
源URL[http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/52251]  
专题中国科学院合肥物质科学研究院
作者单位1.合肥工业大学,材料科学与工程学院
2.合肥工业大学,材料科学与工程学院
3.合肥工业大学,材料科学与工程学院
4.中国科学院固体物理研究所
5.合肥工业大学,材料科学与工程学院
6.合肥工业大学,材料科学与工程学院
7.中国科学院固体物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
舒霞,吴玉程,张勇,等. 化学沉积Co-B纳米晶合金工艺的研究[J]. 电镀与环保,2004,024.
APA 舒霞.,吴玉程.,张勇.,郑玉春.,王文芳.,...&李广海.(2004).化学沉积Co-B纳米晶合金工艺的研究.电镀与环保,024.
MLA 舒霞,et al."化学沉积Co-B纳米晶合金工艺的研究".电镀与环保 024(2004).

入库方式: OAI收割

来源:合肥物质科学研究院

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。