磁控溅射MoSiCN硬质薄膜的制备与性能
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吕鹏辉1; 倪浩明2; 崔平2; 陈建敏3; 方前锋4
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| 刊名 | 中国表面工程
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| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 023 |
| 关键词 | 纳米复合 纳米晶MoN/非晶SiCNx MoSiCN薄膜 抗氧化性 摩擦因数 |
| ISSN号 | 1007-9289 |
| 其他题名 | Reactive Magnetic Sputtering MoSiCN Hard Film and Its Characterization |
| 英文摘要 | MoSiCN纳米复合薄膜于100V负偏压下使用反应磁控溅射法被沉积在硅和不锈钢基体上,其结构和力学性能使用XRD、XPS、TGA、纳米压痕仪、摩擦试验机等测试与表征。测试结果表明薄膜硬度为30GPa;薄膜由MoCN纳米晶粒镶嵌在非晶SiCN基体中,Si含量与纳米复合薄膜的结构密切相关;摩擦因数比MoCN薄膜有很大降低,分析认为纳米C颗粒进入MoSiN晶界中所起的润滑作用使然;薄膜抗氧化温度为1100℃左右,盐雾试验显示薄膜抗腐蚀时间超过150h,经思考认为是薄膜组成中金属Mo的含量减少,大量SiCN陶瓷组分提高了薄膜的抗氧化和抗腐蚀性能。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:3932147 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/53642]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 作者单位 | 1.中国科学院国家科学图书馆武汉分馆 2.中国科学院宁波材料技术与工程研究所 3.中国科学院宁波材料技术与工程研究所 4.中国科学院兰州化学物理研究所 5.中国科学院固体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕鹏辉,倪浩明,崔平,等. 磁控溅射MoSiCN硬质薄膜的制备与性能[J]. 中国表面工程,2010,023. |
| APA | 吕鹏辉,倪浩明,崔平,陈建敏,&方前锋.(2010).磁控溅射MoSiCN硬质薄膜的制备与性能.中国表面工程,023. |
| MLA | 吕鹏辉,et al."磁控溅射MoSiCN硬质薄膜的制备与性能".中国表面工程 023(2010). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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