金刚石薄膜异质外延的研究状况与展望
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王传新1; 汪建华1; 马志斌1; 满卫东1; 王升高1 |
| 刊名 | 材料导报
 |
| 出版日期 | 2002 |
| 卷号 | 016 |
| 关键词 | CVD 半导体 化学气相沉积 外延生长 金刚石薄膜 异质外延 |
| ISSN号 | 1005-023X |
| 其他题名 | Review of Research and Development Word for Heteroepitaxial Diamond Films |
| 英文摘要 | 综述了化学气相沉积异质外延金刚石薄膜机理及工艺的研究现状，分析了存在的问题，并对今后的研究进行了展望。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:986343 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/55433]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 作者单位 | 1.中国科学院等离子体物理研究所 2.中国科学院等离子体物理研究所 3.中国科学院等离子体物理研究所 4.中国科学院等离子体物理研究所 5.中国科学院等离子体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王传新,汪建华,马志斌,等. 金刚石薄膜异质外延的研究状况与展望[J]. 材料导报,2002,016. |
| APA | 王传新,汪建华,马志斌,满卫东,&王升高.(2002).金刚石薄膜异质外延的研究状况与展望.材料导报,016. |
| MLA | 王传新,et al."金刚石薄膜异质外延的研究状况与展望".材料导报 016(2002). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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