KH2PO4中电子或空穴辅助下的氢缺陷反应
文献类型:期刊论文
作者 | 刘长松1![]() |
刊名 | 物理
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出版日期 | 2004 |
卷号 | 033 |
关键词 | 氢缺陷 磷酸二氢钾 非线性光学 KDP 缺陷反应 晶体材料 带隙宽度 |
ISSN号 | 0379-4148 |
其他题名 | Electron--or hole—-assisted reactions of H defects in KH_2PO_4 |
英文摘要 | 研究了非线性光学晶体材料KH2PO4(KDP)中不同带电状态的H缺陷的稳定性及其反应.从而以清晰的物理图像描绘了KDP材料暴露在强紫外线或X射线下性能下降的原因.研究发现,对于H间隙原子,当增加一个电子时,H间隙原子与主H原子发生作用,形成间隙H2分子并产生一个H空位,而增加一个空穴时H间隙原子与临近的主O原子形成氢氧键,这两种带电态的H间隙原子均切断KDP材料中形成网络的氢键;对于H空位,增加一个空穴将导致形成“过氧化氢”桥结构.这些结果在原子层次上清楚地解释了实验所建议的缺陷反应机制。 |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:1361582 |
源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/93210] ![]() |
专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
作者单位 | 1.中国科学院固体物理研究所 2.Department of Physics, California State University |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘长松,Kioussis Nicholas. KH2PO4中电子或空穴辅助下的氢缺陷反应[J]. 物理,2004,033. |
APA | 刘长松,&Kioussis Nicholas.(2004).KH2PO4中电子或空穴辅助下的氢缺陷反应.物理,033. |
MLA | 刘长松,et al."KH2PO4中电子或空穴辅助下的氢缺陷反应".物理 033(2004). |
入库方式: OAI收割
来源:合肥物质科学研究院
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