能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其特性研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 姚宁3; 常立红3; 韩昌报3; 邢宏伟3; 葛亚爽3; 崔娜娜3; 王英俭3 ; 张兵临3
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| 刊名 | 真空科学与技术学报
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| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 031 |
| 关键词 | ITO薄膜 光电性能 表面粗糙度 磁控溅射 能量过滤磁控溅射 |
| ISSN号 | 1672-7126 |
| 其他题名 | Growth and Characterization of Indium-Tin-Oxide Films by Energy Filtered DC Magnetron Sputtering |
| 英文摘要 | 采用磁控溅射（DMS）和能量过滤磁控溅射（EFDMS）技术在玻璃衬底上制备ITO透明导电薄膜。利用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻仪、椭偏光谱仪等对薄膜的性能进行表征和分析,初步探讨了EFDMS技术的成膜机理。研究发现与DMS技术相比,EFDMS技术可有效降低薄膜的表面粗糙度,并且薄膜光电性能有一定改善。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:4210777 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/94825]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 作者单位 | 1.郑州大学物理工程学院 2.中国科学院安徽光学精密机械研究所 3.中国科学院安徽光学精密机械研究所 4.郑州大学物理工程学院 5.郑州大学物理工程学院 6.郑州大学物理工程学院 7.郑州大学物理工程学院 8.郑州大学物理工程学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 姚宁,常立红,韩昌报,等. 能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其特性研究[J]. 真空科学与技术学报,2011,031. |
| APA | 姚宁.,常立红.,韩昌报.,邢宏伟.,葛亚爽.,...&张兵临.(2011).能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其特性研究.真空科学与技术学报,031. |
| MLA | 姚宁,et al."能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其特性研究".真空科学与技术学报 031(2011). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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