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化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究

文献类型:期刊论文

作者舒霞1; 吴玉程1; 张勇1; 郑玉春1; 王文芳1; 黄新民1; 李广海1
刊名电镀与涂饰
出版日期2004
卷号023
关键词钴磷合金 化学沉积 纳米晶 沉积速率
ISSN号1004-227X
英文摘要化学沉积可得到均匀、致密的纳米晶薄膜,是一种较为理想的纳米晶制备方法。采用正交实验优化了化学沉积纳米晶钴磷合金的工艺配方,研究了正交实验5因素如硫酸钴、柠檬酸三钠、硼酸、次磷酸钠和温度及负载因子、沉积时间对沉积速度的影响。研究获得的优化工艺配方和参数为:0.06~0.12mol/LCoSO4·7H2O,0.40~0.55mol/L NaH2PO2·H2O,0.15~0.3mol/LNa3C6H5O7·2H2O,0.3~0.6mol/L H3BO3,50~80℃,负载因子0.4~0.8dm^2/L。
语种中文
CSCD记录号CSCD:1689938
源URL[http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/96406]  
专题中国科学院合肥物质科学研究院
作者单位1.合肥工业大学材料科学与工程学院
2.合肥工业大学材料科学与工程学院
3.中国科学院固体物理研究所
4.合肥工业大学材料科学与工程学院
5.合肥工业大学材料科学与工程学院
6.合肥工业大学材料科学与工程学院
7.中国科学院固体物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
舒霞,吴玉程,张勇,等. 化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究[J]. 电镀与涂饰,2004,023.
APA 舒霞.,吴玉程.,张勇.,郑玉春.,王文芳.,...&李广海.(2004).化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究.电镀与涂饰,023.
MLA 舒霞,et al."化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究".电镀与涂饰 023(2004).

入库方式: OAI收割

来源:合肥物质科学研究院

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