化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究
文献类型:期刊论文
作者 | 舒霞1; 吴玉程1; 张勇1![]() ![]() |
刊名 | 电镀与涂饰
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出版日期 | 2004 |
卷号 | 023 |
关键词 | 钴磷合金 化学沉积 纳米晶 沉积速率 |
ISSN号 | 1004-227X |
英文摘要 | 化学沉积可得到均匀、致密的纳米晶薄膜,是一种较为理想的纳米晶制备方法。采用正交实验优化了化学沉积纳米晶钴磷合金的工艺配方,研究了正交实验5因素如硫酸钴、柠檬酸三钠、硼酸、次磷酸钠和温度及负载因子、沉积时间对沉积速度的影响。研究获得的优化工艺配方和参数为:0.06~0.12mol/LCoSO4·7H2O,0.40~0.55mol/L NaH2PO2·H2O,0.15~0.3mol/LNa3C6H5O7·2H2O,0.3~0.6mol/L H3BO3,50~80℃,负载因子0.4~0.8dm^2/L。 |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:1689938 |
源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/96406] ![]() |
专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
作者单位 | 1.合肥工业大学材料科学与工程学院 2.合肥工业大学材料科学与工程学院 3.中国科学院固体物理研究所 4.合肥工业大学材料科学与工程学院 5.合肥工业大学材料科学与工程学院 6.合肥工业大学材料科学与工程学院 7.中国科学院固体物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 舒霞,吴玉程,张勇,等. 化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究[J]. 电镀与涂饰,2004,023. |
APA | 舒霞.,吴玉程.,张勇.,郑玉春.,王文芳.,...&李广海.(2004).化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究.电镀与涂饰,023. |
MLA | 舒霞,et al."化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究".电镀与涂饰 023(2004). |
入库方式: OAI收割
来源:合肥物质科学研究院
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