化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 舒霞1; 吴玉程1; 张勇1 ; 郑玉春1; 王文芳1; 黄新民1; 李广海1
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| 刊名 | 电镀与涂饰
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| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 023 |
| 关键词 | 钴磷合金 化学沉积 纳米晶 沉积速率 |
| ISSN号 | 1004-227X |
| 英文摘要 | 化学沉积可得到均匀、致密的纳米晶薄膜，是一种较为理想的纳米晶制备方法。采用正交实验优化了化学沉积纳米晶钴磷合金的工艺配方，研究了正交实验5因素如硫酸钴、柠檬酸三钠、硼酸、次磷酸钠和温度及负载因子、沉积时间对沉积速度的影响。研究获得的优化工艺配方和参数为：0．06～0．12mol／LCoSO4·7H2O,0．40～0．55mol／L NaH2PO2·H2O，0．15～0．3mol／LNa3C6H5O7·2H2O，0．3～0．6mol／L H3BO3，50～80℃，负载因子0．4～0．8dm^2／L。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:1689938 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/96406]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 作者单位 | 1.合肥工业大学材料科学与工程学院 2.合肥工业大学材料科学与工程学院 3.中国科学院固体物理研究所 4.合肥工业大学材料科学与工程学院 5.合肥工业大学材料科学与工程学院 6.合肥工业大学材料科学与工程学院 7.中国科学院固体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 舒霞,吴玉程,张勇,等. 化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究[J]. 电镀与涂饰,2004,023. |
| APA | 舒霞.,吴玉程.,张勇.,郑玉春.,王文芳.,...&李广海.(2004).化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究.电镀与涂饰,023. |
| MLA | 舒霞,et al."化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究".电镀与涂饰 023(2004). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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