W过渡层结合界面对金刚石薄膜在WC—6％Co上的附着力的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王传新1; 汪建华1; 满卫东1; 马志斌1; 王升高1; 康志成2 |
| 刊名 | 高压物理学报
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| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 018 |
| 关键词 | 复合材料 微波等离子体化学气相沉积装置 金刚石薄膜 附着力 钨过渡层 |
| ISSN号 | 1000-5773 |
| 其他题名 | Effects of W Diffusion Barrier Layer for Diamond Coatings Deposited on WC-Co Substrates |
| 英文摘要 | 在微波等离子体化学气相沉积装置中，采用负偏压形核等方法，研究两种不同的W过渡层／基体结合界面对金刚石薄膜与WC—6％Co附着力的影响。采用氢等离子体脱碳、磁控溅射镀W、高偏压碳化等方法，在YG6衬底表面形成化学反应型界面，W膜在碳化时和基体WC连为一体，极大地增加了W膜与基体的附着力，明显优于直接镀钨、碳化形成的物理吸附界面。在高负偏压下碳化，能提高表面粗糙度，增加膜与基体机械钳合，而负偏压形核增加核密度，从而增加膜与基体的接触面积，结果极大地提高了金刚石薄膜的附着力。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:1510975 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/96424]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 作者单位 | 1.武汉化工学院 2.武汉化工学院 3.武汉化工学院 4.武汉化工学院 5.武汉化工学院 6.中国科学院等离子体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王传新,汪建华,满卫东,等. W过渡层结合界面对金刚石薄膜在WC—6％Co上的附着力的影响[J]. 高压物理学报,2004,018. |
| APA | 王传新,汪建华,满卫东,马志斌,王升高,&康志成.(2004).W过渡层结合界面对金刚石薄膜在WC—6％Co上的附着力的影响.高压物理学报,018. |
| MLA | 王传新,et al."W过渡层结合界面对金刚石薄膜在WC—6％Co上的附着力的影响".高压物理学报 018(2004). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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