248nm高反膜抗激光损伤性能
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘凤娟1; 周曙1 ; 秦娟娟1; 邵景珍1; 方晓东1
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| 刊名 | 强激光与粒子束
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| 出版日期 | 2014 |
| 卷号 | 026 |
| 关键词 | 248 nm KrF准分子激光器 高反膜 激光损伤 保护层 |
| ISSN号 | 1001-4322 |
| 其他题名 | Laser damage resistance of 248 nm HR films |
| 英文摘要 | 用电子束蒸发法在熔融石英基底上沉积了适用于248 nm的HfO2/SiO2高反膜,为提高其抗激光损伤能力,设计并制备了两种保护层,一种是在常规高反膜系的基础上镀制二分之一波长厚度的SiO2保护层,另一种是用Al2O3/MgF2做保护层.测试了3种高反膜样品的激光损伤情况,通过损伤形貌的变化分析了两种保护层使抗激光损伤能力提高的原因以及存在的问题. |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:5207631 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/96593]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 作者单位 | 1.中国科学院安徽光学精密机械研究所 2.中国科学院安徽光学精密机械研究所 3.中国科学院安徽光学精密机械研究所 4.中国科学院安徽光学精密机械研究所 5.中国科学院安徽光学精密机械研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘凤娟,周曙,秦娟娟,等. 248nm高反膜抗激光损伤性能[J]. 强激光与粒子束,2014,026. |
| APA | 刘凤娟,周曙,秦娟娟,邵景珍,&方晓东.(2014).248nm高反膜抗激光损伤性能.强激光与粒子束,026. |
| MLA | 刘凤娟,et al."248nm高反膜抗激光损伤性能".强激光与粒子束 026(2014). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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