总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王贺权 ; 巴德纯 ; 沈辉 ; 汪保卫 ; 闻立时 |
| 刊名 | 真空科学与技术学报
 |
| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 25期号:1页码:65-68 |
| 合作状况 | 其它 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-12-10 ; 2010-10-15 |
| 源URL | [http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/494]  |
| 专题 | 中国科学院广州能源研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王贺权,巴德纯,沈辉,等. 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[J]. 真空科学与技术学报,2005,25(1):65-68. |
| APA | 王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,&闻立时.(2005).总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响.真空科学与技术学报,25(1),65-68. |
| MLA | 王贺权,et al."总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响".真空科学与技术学报 25.1(2005):65-68. |
入库方式： OAI收割
来源：广州能源研究所
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