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蛇足石杉的形态学及不同光照处理下气孔特征的研究

文献类型:期刊论文

作者黎有有2; 唐源江1; 李菁2; 周毅2; 黄衡宇2
刊名植物研究
出版日期2009
卷号29期号:04页码:411-416
关键词蛇足石杉 形态特征 光照强度 气孔特征
英文摘要对蛇足石杉的形态学特征进行了重新描述,并对不同光照处理下蛇足石杉叶片的气孔特征进行比较。结果表明:在一定范围内,随着环境中光照强度的增加,气孔长度和宽度、单个气孔面积、气孔密度及气孔总面积都呈增加的趋势。当光照强度超过某一阈值时其气孔指数和气孔密度仍呈增加的趋势,但气孔长度、宽度和单个气孔面积呈变小趋势。小而密的气孔是其适应旱生环境的表现,表明其具有一定的生态适应能力,但进行人工栽培时应避免光照过强。
源URL[http://210.77.82.179/handle/2SCSIERX/3761]  
专题研究领域
作者单位1.中国科学院华南植物园,广州510650
2.吉首大学植物资源保护与利用湖南省高校重点实验室,吉首 416000;
推荐引用方式
GB/T 7714
黎有有,唐源江,李菁,等. 蛇足石杉的形态学及不同光照处理下气孔特征的研究[J]. 植物研究,2009,29(04):411-416.
APA 黎有有,唐源江,李菁,周毅,&黄衡宇.(2009).蛇足石杉的形态学及不同光照处理下气孔特征的研究.植物研究,29(04),411-416.
MLA 黎有有,et al."蛇足石杉的形态学及不同光照处理下气孔特征的研究".植物研究 29.04(2009):411-416.

入库方式: OAI收割

来源:华南植物园

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