一种高抑制比光陷阱
文献类型：专利
| 作者 | 陈钦芳; 薛要克; 刘阳 ; 林上民; 刘美莹; 马占鹏
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| 发表日期 | 2020-09-01 |
| 专利号 | CN201922350822.3 |
| 著作权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 实用新型 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 本实用新型提供了一种高抑制比光陷阱，解决现有光陷阱对随机入射光和平行光无针对性，入射光难以满足高精度的杂散光测试需求，成本较高的问题。该光陷阱包括底面、平行设置的两个等腰直角三角形侧面、形状相同的第一反射面和第二反射面；底面、第一反射面、第二反射面、等腰直角三角形侧面内壁材均为黑色玻璃；底面、第一反射面、第二反射面依次尾首连接形成三角柱框架；两个等腰直角三角形侧面分别位于三角柱框架两侧开口处，形成密封腔室；底面上设有通光孔，该通光孔靠近第一反射面；经通光孔进入的平行光依次经第一反射面反射、第二反射面反射至底面，经底面反射回的光线再依次经第二反射面反射、第一反射面反射后从通光孔出射。 |
| 申请日期 | 2019-12-24 |
| 语种 | 中文 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94172]  |
| 专题 | 西安光学精密机械研究所_空间光学应用研究室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈钦芳,薛要克,刘阳,等. 一种高抑制比光陷阱. CN201922350822.3. 2020-09-01. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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