利用PECVD 快速沉积超厚类金刚石碳基薄膜技术
文献类型:期刊论文
作者 | 魏徐兵1,2; 尚伦霖1; 鲁志斌1,2![]() ![]() |
刊名 | 真空与低温
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出版日期 | 2020-10 |
卷号 | 26期号:5页码:402-409 |
关键词 | 等离子体增强化学气相沉积 超厚类金刚石碳膜 快速沉积 耐磨损 耐腐蚀 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://ir.licp.cn/handle/362003/26863] ![]() |
专题 | 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
通讯作者 | 张广安 |
作者单位 | 1.中国科学院兰州化学物理研究所 2.中国科学院大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 魏徐兵,尚伦霖,鲁志斌,等. 利用PECVD 快速沉积超厚类金刚石碳基薄膜技术[J]. 真空与低温,2020,26(5):402-409. |
APA | 魏徐兵,尚伦霖,鲁志斌,&张广安.(2020).利用PECVD 快速沉积超厚类金刚石碳基薄膜技术.真空与低温,26(5),402-409. |
MLA | 魏徐兵,et al."利用PECVD 快速沉积超厚类金刚石碳基薄膜技术".真空与低温 26.5(2020):402-409. |
入库方式: OAI收割
来源:兰州化学物理研究所
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