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氟喹诺酮类抗菌素的光遗传毒性

文献类型:期刊论文

作者张婷; 屠曾宏
刊名癌变.畸变.突变
出版日期2003
卷号15.0期号:002页码:124
关键词氟喹诺酮类抗菌素 光遗传毒性 光毒姓
ISSN号1004-616X
英文摘要氟喹诺酮类抗菌素在临床上应用很广,抗菌活性确定,副作用和耐药性较小,特别是第3代和第4代氟喹诺酮类抗菌素对G^+菌、耐青霉素的金黄色葡萄球菌均有较好的作用,但目前国内对其主要不良反应——光毒性的产生机制研究甚少。由于光毒性与光敏性皮肤癌的发生有一定的关系,因而值得警惕和重视。本文将对氟喹诺酮类抗菌素的光遗传毒性的研究概况进行综述,并说明对遗传物质的损伤机制。
语种英语
源URL[http://119.78.100.183/handle/2S10ELR8/294626]  
专题中国科学院上海药物研究所
作者单位中国科学院上海药物研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张婷,屠曾宏. 氟喹诺酮类抗菌素的光遗传毒性[J]. 癌变.畸变.突变,2003,15.0(002):124.
APA 张婷,&屠曾宏.(2003).氟喹诺酮类抗菌素的光遗传毒性.癌变.畸变.突变,15.0(002),124.
MLA 张婷,et al."氟喹诺酮类抗菌素的光遗传毒性".癌变.畸变.突变 15.0.002(2003):124.

入库方式: OAI收割

来源:上海药物研究所

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