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硼对单晶和多晶Ni<,3>Al合金3d电子的影响

文献类型:会议论文

作者邓文 ; 中国科学院国际材料物理中心(沈阳) ; 黄宇阳 ; 吴道宏 ; 熊良钺 ; 中国科学院国际材料物理中心(沈阳) ; 王淑荷 ; 郭建亭
出版日期2002-06-01
会议名称第八届全国正电子谱学会议
会议日期2002-06-01
会议地点宜昌
关键词Ni< 3>Al合金 微观缺陷 3d电子 正电子湮没 硼含量 多普勒展宽谱
中文摘要用双探头符合技术正电子湮没辐射多普勒展宽装置研究硼在单晶和多晶Ni<,3>Al合金中的行为及其对合金中3d电子的影响,结果表明,Ni<,3>Al合金Ll<,2>结构中由六个Ni原子围成的八面体间隙的正电子的捕获势阱,当正电子被注入到Ni<,3>Al合金晶体后,绝大部分进入八面体间隙中,并主要与Ni原子的电子湮没,在单晶Ni<,3>Al合金中加入B元素,B原子占据Ll<,2>结构中的八面体间隙,被B原子占据了的八面体间隙对正电子的捕获率下降,导致正电子与Ni原子的3d电子湮没几率降低,多晶Ni<,3>Al合金的晶界缺陷的开空间较大,是正电子的深捕获势阱,多晶Ni<,3>Al合金中加入B元素,硼原子更容易偏聚到Ni<,3>Al合金的晶界缺陷上,导致晶界缺陷对正电子的束缚能降低,对电子的捕获率下降,进而提高了正电子在合金基体中与Ni原子的3d电子湮没几率.
会议主办者中国物理学会
会议录第八届全国正电子谱学会议论文集
会议录出版者中国物理学会
会议录出版地北京
语种中文
源URL[http://210.72.142.130/handle/321006/69961]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
邓文,中国科学院国际材料物理中心(沈阳),黄宇阳,等. 硼对单晶和多晶Ni<,3>Al合金3d电子的影响[C]. 见:第八届全国正电子谱学会议. 宜昌. 2002-06-01.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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