塞曼校正平台石墨炉原子吸收光谱法测定高纯铝硅合金中痕量铅
文献类型:会议论文
作者 | 陈明 ; 孙莹 |
出版日期 | 2002-12-01 |
会议名称 | 2002年中国机械工程学会年会 |
会议日期 | 2002-12-01 |
会议地点 | 北京 |
关键词 | 塞曼背景校正 铝硅合金 痕量铅测定 原子吸收光谱法 |
中文摘要 | 本文提出用塞曼背景校正平台石墨炉原子吸收光谱法分析高纯铝硅合金中痕量铅,不需要分离样品基体,采用标准加入方法直接测定.对铅的灰化和原子化温度进行了试验.方法的检出限为0.31g/g,标准加入回收率为91﹪~112﹪. |
会议主办者 | 中国机械工程学会 |
会议录 | 2002年中国机械工程学会年会论文集
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会议录出版者 | 中国机械工程学会 |
会议录出版地 | 北京 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70032] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈明,孙莹. 塞曼校正平台石墨炉原子吸收光谱法测定高纯铝硅合金中痕量铅[C]. 见:2002年中国机械工程学会年会. 北京. 2002-12-01. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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