电子背散射衍射技术对疲劳铜单晶中的不同位错结构的取向变化的分析
文献类型：会议论文
| 作者 | 李勇 ; 高薇 ; 苏会和 ; 李守新 |
| 出版日期 | 2003-11-02 |
| 会议名称 | 第二届全国扫描电子显微学会议 |
| 会议日期 | 2003-11-02 |
| 会议地点 | 珠海 |
| 关键词 | 铜单晶 位错结构 电子背散射衍射 取向差 |
| 中文摘要 | 本文应用电子背散射衍射和扫描电镜技术对疲劳铜单晶中的最典型的位错结构,即沿[110]方向排列的错墙结构与基本位错组态之间的取向差进行分析. |
| 会议主办者 | 中国物理学会 |
| 会议录 | 电子显微学报2003第22卷第6期
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| 会议录出版者 | 电子显微学报编辑部 |
| 会议录出版地 | 北京 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70115]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李勇,高薇,苏会和,等. 电子背散射衍射技术对疲劳铜单晶中的不同位错结构的取向变化的分析[C]. 见:第二届全国扫描电子显微学会议. 珠海. 2003-11-02. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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