磁控溅射纳米PtSi薄膜表面和界面特征
文献类型：会议论文
| 作者 | 殷景华 ; 蔡伟 ; 王明光 ; 郑玉峰 ; 李美成 ; 王培林 ; 赵连城 |
| 出版日期 | 2002-11-28 |
| 会议名称 | 第二届全国纳米技术与应用学术会议 |
| 会议日期 | 2002-11-28 |
| 会议地点 | 宁波 |
| 关键词 | 表面形貌 界面结构 磁控溅射方法 硅化铂 纳米薄膜 |
| 中文摘要 | 采用磁控溅射方法在p-Si(111)衬底上淀积5nm Pt膜,退火后形成PtSi薄膜,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察了PtSi薄膜的表面和界面特征.实验结果表明,工艺条件影响PtSi薄膜的微观组织结构和表面形貌.随着衬底温度增加,薄膜表面由柱晶状团簇变为扁平状团簇,薄膜显微结构由多层变为单层.衬底加热有利于形成界面清晰、结构完整、成分单一的PtSi薄膜. |
| 会议主办者 | 中国电子学会 |
| 会议录 | 《半导体学报》第24卷 增刊第二届全国纳米技术与应用学术会议专刊
 |
| 会议录出版者 | 《半导体学报》编辑部 |
| 会议录出版地 | 北京 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70182]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 殷景华,蔡伟,王明光,等. 磁控溅射纳米PtSi薄膜表面和界面特征[C]. 见:第二届全国纳米技术与应用学术会议. 宁波. 2002-11-28. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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