高铌TiAl合金的氧化及其显微结构研究
文献类型：会议论文
| 作者 | 鲁伟 ; 贺连龙 |
| 出版日期 | 2004-08-20 |
| 会议名称 | 第十三届全国电子显微学会议 |
| 会议日期 | 2004-08-20 |
| 会议地点 | 威海 |
| 关键词 | TiAl合金 显微结构 抗氧化性能 电子显微学 |
| 中文摘要 | 本实验所用合金为Ti-45Al-8Nb-0.2W-0.2B-0.02Y(at.﹪).通过热分析天平在900℃下进行了100h的连续氧化实验.然后,通过JEOL2010高分辨电镜对氧化膜显微结构进行了观察,并用Tecnia30的EDS对氧化膜的成分进行了纳米尺度分析. |
| 会议主办者 | 中国物理学会 |
| 会议录 | 电子显微学报/2004.4
 |
| 会议录出版者 | 《电子显微学报》编辑部 |
| 会议录出版地 | 北京 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70233]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 鲁伟,贺连龙. 高铌TiAl合金的氧化及其显微结构研究[C]. 见:第十三届全国电子显微学会议. 威海. 2004-08-20. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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