Influence of Schottky drain contacts on the strained AlGaN barrier layer of AlGaN/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors
文献类型：期刊论文
| 作者 | Cao Zhi-Fang ; Lin Zhao-Jun ; Lu Yuan-Jie ; Luan Chong-Biao ; Wang Zhan-Guo |
| 刊名 | chinese physics b
 |
| 出版日期 | 2013 |
| 卷号 | 22期号:4页码:047102 |
| 学科主题 | 半导体材料 |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-09-17 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/24325]  |
| 专题 | 半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Cao Zhi-Fang,Lin Zhao-Jun,Lu Yuan-Jie,et al. Influence of Schottky drain contacts on the strained AlGaN barrier layer of AlGaN/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors[J]. chinese physics b,2013,22(4):047102. |
| APA | Cao Zhi-Fang,Lin Zhao-Jun,Lu Yuan-Jie,Luan Chong-Biao,&Wang Zhan-Guo.(2013).Influence of Schottky drain contacts on the strained AlGaN barrier layer of AlGaN/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors.chinese physics b,22(4),047102. |
| MLA | Cao Zhi-Fang,et al."Influence of Schottky drain contacts on the strained AlGaN barrier layer of AlGaN/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors".chinese physics b 22.4(2013):047102. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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