极紫外投影光刻掩模阴影效应分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 曹宇婷 ; 王向朝 ; 步扬 ; 刘晓雷 |
| 刊名 | 光学学报
 |
| 出版日期 | 2012 |
| 卷号 | 32期号:8 |
| 公开日期 | 2013-09-17 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/11325]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 曹宇婷,王向朝,步扬,等. 极紫外投影光刻掩模阴影效应分析[J]. 光学学报,2012,32(8). |
| APA | 曹宇婷,王向朝,步扬,&刘晓雷.(2012).极紫外投影光刻掩模阴影效应分析.光学学报,32(8). |
| MLA | 曹宇婷,et al."极紫外投影光刻掩模阴影效应分析".光学学报 32.8(2012). |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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