Effects of substrate temperatures and deposition rates on properties of aluminum fluoride thin films in deep-ultraviolet region
文献类型：期刊论文
| 作者 | Sun J(孙建) ; Li X(李煦) ; Zhang WL(张伟丽) ; Yi K(易葵) ; Shao JD(邵建达) |
| 刊名 | applied optics
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| 出版日期 | 2012-12-10 |
| 卷号 | 51期号:35页码:8481-8489 |
| 学科主题 | 第一研究方向 |
| WOS记录号 | WOS:000312378700021 |
| 公开日期 | 2013-09-13 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/11193]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Sun J,Li X,Zhang WL,et al. Effects of substrate temperatures and deposition rates on properties of aluminum fluoride thin films in deep-ultraviolet region[J]. applied optics,2012,51(35):8481-8489. |
| APA | Sun J,Li X,Zhang WL,Yi K,&Shao JD.(2012).Effects of substrate temperatures and deposition rates on properties of aluminum fluoride thin films in deep-ultraviolet region.applied optics,51(35),8481-8489. |
| MLA | Sun J,et al."Effects of substrate temperatures and deposition rates on properties of aluminum fluoride thin films in deep-ultraviolet region".applied optics 51.35(2012):8481-8489. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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