沉积激光能量对CuAlO_2薄膜光学性质的影响
文献类型：期刊论文
| 刊名 | 无机材料学报
 |
| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 026 |
| 关键词 | 脉冲激光沉积 CuAlO2薄膜 光学带隙 室温光致发光谱 |
| ISSN号 | 1000-324X |
| 其他题名 | Effect of Deposition Laser Energy on the Optical Properties of CuAlO_2 Films |
| 英文摘要 | 采用脉冲激光沉积法制备了CuAlO2薄膜.在沉积激光能量100～180mJ范围内原位沉积的薄膜并在N2气氛下900℃异位退火1h处理后,所有薄膜均为高度c轴取向的单相CuAlO2薄膜,晶粒尺寸～49nm.随着沉积激光能量的增大,薄膜厚度增加,表面颗粒尺寸明显增大,在可见光区的平均透射率下降.室温光致发光谱发现,CuAlO2薄膜在350nm附近有一个自由激子复合发光峰,说明在CuAlO2宽带隙半导体中存在直接带间跃迁,这对于该材料在光电子领域如发光二极管的应用具有重要意义. |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:4157861 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/67925]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | . 沉积激光能量对CuAlO_2薄膜光学性质的影响[J]. 无机材料学报,2011,026. |
| APA | (2011).沉积激光能量对CuAlO_2薄膜光学性质的影响.无机材料学报,026. |
| MLA | "沉积激光能量对CuAlO_2薄膜光学性质的影响".无机材料学报 026(2011). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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