射频ICP离子源设计研究
文献类型：期刊论文
| 刊名 | 真空科学与技术
 |
| 出版日期 | 2002 |
| 卷号 | 022 |
| 关键词 | 射频ICP 离子源 设计 射频匹配网络 感应耦合等离子体 离子流 均匀性 中性化 |
| ISSN号 | 0253-9748 |
| 其他题名 | Design of Radio Frequency Inductively Coupled Plasma Ion Source |
| 英文摘要 | 本文介绍了射频（RF）感应耦合等离子体（ICP）离子源的设计研究。对RF ICP的结构、离子流的引出以及离子流的均匀性、中性化和射频匹配网络进行了研究。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:1364575 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/67649]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | . 射频ICP离子源设计研究[J]. 真空科学与技术,2002,022. |
| APA | (2002).射频ICP离子源设计研究.真空科学与技术,022. |
| MLA | "射频ICP离子源设计研究".真空科学与技术 022(2002). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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