高气压直流辉光CH4/H2等离子体放电过程中的占空比效应
文献类型:期刊论文
刊名 | 真空科学与技术学报
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出版日期 | 2019 |
卷号 | 039 |
关键词 | 高气压直流等离子体 占空比 波形 发射光谱 |
ISSN号 | 1672-7126 |
其他题名 | Effect of Duty Ratio on High Pressure DC Glow Discharge of CH4/H2 Plasma |
英文摘要 | 对高气压下直流均匀辉光放电的脉冲占空比效应进行了研究。在1.7 kHz脉冲放电条件下,当占空比高于73%时,脉冲间隔后电压需要经过10~20μs的上升时间至稳定;而电流增长明显地滞后于电压的上升,整个增长过程需要的时间约是电压上升时间的10倍。减小占空比,表示电流增长快慢程度的时间常数τ几乎线性增加。这是因为小占空比时,上升通道开始时刻的等离子体电子密度低,放电电流需要更长时间才能稳定。在高气压条件下,粒子碰撞效应显著增强,增加的放电功率被更多地被用于加热中性粒子,表现为Hα、Hβ等发射光谱强度随占空比降低而增加。进一步减小占空比,电子密度n_e衰减到过低,时间常数τ增加到一定值时,放电就难以维持,表现为放电不稳定乃至熄灭。 |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:6501933 |
源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/63492] ![]() |
专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | . 高气压直流辉光CH4/H2等离子体放电过程中的占空比效应[J]. 真空科学与技术学报,2019,039. |
APA | (2019).高气压直流辉光CH4/H2等离子体放电过程中的占空比效应.真空科学与技术学报,039. |
MLA | "高气压直流辉光CH4/H2等离子体放电过程中的占空比效应".真空科学与技术学报 039(2019). |
入库方式: OAI收割
来源:合肥物质科学研究院
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