负偏压形核法增强金刚石薄膜附着力研究
文献类型：期刊论文
| 刊名 | 工具技术
 |
| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 038 |
| 关键词 | 负偏压形核 金刚石薄膜 附着力 微波等离子体化学气相沉积 硬质合金刀具 |
| ISSN号 | 1000-7008 |
| 其他题名 | Applying Negative Bias Voltage Nucleation Method to Enhance Adhesive Strength of Diamond Coatings |
| 英文摘要 | 在微波等离子体化学气相沉积装置中，研究了负偏压形核对金刚石薄膜与WC-6％硬质合金刀具附着力的影响。结果表明，负偏压形核不仅能增加金刚石的核密度，还能改善金刚石核在WC晶粒上分布的均匀性，增加膜基有效结合面积，从而增加金刚石薄膜附着力。因负偏压形核时含碳离子被偏压电场加速，对刀具表面产生溅射作用，采用铜替代置换钴的刀具，使用负偏压形核反而降低薄膜附着力；而采用磁控溅射镀铜的刀具，使用负偏压形核则能进一步提高金刚石薄膜的附着力。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:1785007 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/62590]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | . 负偏压形核法增强金刚石薄膜附着力研究[J]. 工具技术,2004,038. |
| APA | (2004).负偏压形核法增强金刚石薄膜附着力研究.工具技术,038. |
| MLA | "负偏压形核法增强金刚石薄膜附着力研究".工具技术 038(2004). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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