美国西南研究院等离子全方位离子镀膜技术研究及实际应用
文献类型:期刊论文
刊名 | 中国表面工程
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出版日期 | 2012 |
卷号 | 025 |
关键词 | DLC 脉冲辉光放电 空心阴极放电 管道内壁镀膜 冲蚀 磨损 腐蚀 |
ISSN号 | 1007-9289 |
其他题名 | Plasma Immersion Ion Deposition Research at SwRI and Its Practical Applications |
英文摘要 | 文中介绍了美国西南研究院(Southwest Research Institute-SwRI)等离子全方位离子镀膜技术(PIID)的最新研究成果。SwRI从实际应用出发,在等离子表面工程领域成功研发了一些新技术,PIID技术为其中一种。近几年来,SwRI研究的重点为类金刚石(DLC)涂层的高速率沉积,制备超厚DLC涂层用于提高工件的耐磨性和耐腐蚀性能、憎水DLC涂层以及长管道内表面的镀膜技术。与传统的脉冲辉光放电(PGD)技术不同,SwRI基于空心阴极放电(HCD)等离子技术研发了一套独特的镀膜技术,同时讨论了HCD技术的原理,并对HCD和PGD技术制备DLC涂层的实验结果和这两项技术的实际应用进行了讨论。最后,对该技术最新的研究方向进行了展望。 |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:4514947 |
源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/62538] ![]() |
专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | . 美国西南研究院等离子全方位离子镀膜技术研究及实际应用[J]. 中国表面工程,2012,025. |
APA | (2012).美国西南研究院等离子全方位离子镀膜技术研究及实际应用.中国表面工程,025. |
MLA | "美国西南研究院等离子全方位离子镀膜技术研究及实际应用".中国表面工程 025(2012). |
入库方式: OAI收割
来源:合肥物质科学研究院
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