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美国西南研究院等离子全方位离子镀膜技术研究及实际应用

文献类型:期刊论文

刊名中国表面工程
出版日期2012
卷号025
关键词DLC 脉冲辉光放电 空心阴极放电 管道内壁镀膜 冲蚀 磨损 腐蚀
ISSN号1007-9289
其他题名Plasma Immersion Ion Deposition Research at SwRI and Its Practical Applications
英文摘要文中介绍了美国西南研究院(Southwest Research Institute-SwRI)等离子全方位离子镀膜技术(PIID)的最新研究成果。SwRI从实际应用出发,在等离子表面工程领域成功研发了一些新技术,PIID技术为其中一种。近几年来,SwRI研究的重点为类金刚石(DLC)涂层的高速率沉积,制备超厚DLC涂层用于提高工件的耐磨性和耐腐蚀性能、憎水DLC涂层以及长管道内表面的镀膜技术。与传统的脉冲辉光放电(PGD)技术不同,SwRI基于空心阴极放电(HCD)等离子技术研发了一套独特的镀膜技术,同时讨论了HCD技术的原理,并对HCD和PGD技术制备DLC涂层的实验结果和这两项技术的实际应用进行了讨论。最后,对该技术最新的研究方向进行了展望。
语种中文
CSCD记录号CSCD:4514947
源URL[http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/62538]  
专题中国科学院合肥物质科学研究院
推荐引用方式
GB/T 7714
. 美国西南研究院等离子全方位离子镀膜技术研究及实际应用[J]. 中国表面工程,2012,025.
APA (2012).美国西南研究院等离子全方位离子镀膜技术研究及实际应用.中国表面工程,025.
MLA "美国西南研究院等离子全方位离子镀膜技术研究及实际应用".中国表面工程 025(2012).

入库方式: OAI收割

来源:合肥物质科学研究院

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