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激光诱导化学气相沉积法制备纳米a—Si3N4粉体及粉体光谱特性的研究

文献类型:期刊论文

刊名应用激光
出版日期2004
卷号024
关键词粉体 游离硅 制备 Si3N4 纳米 高纯度 反应装置 化学气相沉积法 红外吸收光谱 激光诱导
ISSN号1000-372X
其他题名Research on Preparation of Silicon Nitride Nano -powders with Laser Induced Chemical Vapor Deposition and Optical Characteristics of Powders
英文摘要为了制备高纯度的非晶纳米粉体,在传统的激光诱导化学气相沉积法反应装置的基础上,引入“双光束激励”的新方法,利用正交紫外光束激励分解,从而提高气相中N/Si比,减少产物中游离硅的浓度。研究了粒子的红外吸收光谱特性,并指出表面效应和量子尺寸效应导致粉体红外吸收光谱的蓝移和宽化现象,同时红外吸收光谱中的这些反常现象也验证了粉体的纳米特性。
语种中文
CSCD记录号CSCD:1869593
源URL[http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/61311]  
专题中国科学院合肥物质科学研究院
推荐引用方式
GB/T 7714
. 激光诱导化学气相沉积法制备纳米a—Si3N4粉体及粉体光谱特性的研究[J]. 应用激光,2004,024.
APA (2004).激光诱导化学气相沉积法制备纳米a—Si3N4粉体及粉体光谱特性的研究.应用激光,024.
MLA "激光诱导化学气相沉积法制备纳米a—Si3N4粉体及粉体光谱特性的研究".应用激光 024(2004).

入库方式: OAI收割

来源:合肥物质科学研究院

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