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Manufacturing Tolerance Analysis of Deep-Ridged 90° Hybrid Based on InP 4 × 4 MMI

文献类型:期刊论文

作者Ziqing Lu;  Qin Han;  Han Ye ;  Shuai Wang
刊名PHOTONICS
出版日期2020
卷号7期号:2页码:26
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/30291]  
专题半导体研究所_固态光电信息技术实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
Ziqing Lu;Qin Han;Han Ye ;Shuai Wang. Manufacturing Tolerance Analysis of Deep-Ridged 90° Hybrid Based on InP 4 × 4 MMI[J]. PHOTONICS,2020,7(2):26.
APA Ziqing Lu;Qin Han;Han Ye ;Shuai Wang.(2020).Manufacturing Tolerance Analysis of Deep-Ridged 90° Hybrid Based on InP 4 × 4 MMI.PHOTONICS,7(2),26.
MLA Ziqing Lu;Qin Han;Han Ye ;Shuai Wang."Manufacturing Tolerance Analysis of Deep-Ridged 90° Hybrid Based on InP 4 × 4 MMI".PHOTONICS 7.2(2020):26.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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