电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 潘永刚2; 刘政2; 王奔1; 张四宝2; 吕辰瑞2 |
| 刊名 | 激光与光电子学进展
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| 出版日期 | 2021 |
| 卷号 | 58期号:5 |
| 关键词 | 薄膜 均匀性 电子束蒸发 球面夹具 修正挡板 |
| ISSN号 | 1006-4125 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 基于电子束蒸发小面源非余弦膜厚的分布公式,研究了电子束蒸发球面夹具系统光学薄膜厚度的分布均匀性。同时建立数学模型,通过MathCAD编程求解修正挡板的形状及摆放位置,控制光学薄膜厚度的分布均匀性。以蒸发Ta_2O_5薄膜为例,优化修正挡板的位置及形状,并制备厚度为600 nm的Ta_2O_5单层薄膜。实验结果表明,采用该模型优化设计的修正挡板,实际厚度不均匀性为0.6%,验证了该模型的可行性与正确性。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:6953000 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94947]  |
| 专题 | 先进光学元件试制中心 |
| 作者单位 | 1.上海米蜂激光科技有限公司, 上海 200120, 中国 2.中国科学院西安光学精密机械研究所, 西安, 陕西 710119, 中国 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 潘永刚,刘政,王奔,等. 电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究[J]. 激光与光电子学进展,2021,58(5). |
| APA | 潘永刚,刘政,王奔,张四宝,&吕辰瑞.(2021).电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究.激光与光电子学进展,58(5). |
| MLA | 潘永刚,et al."电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究".激光与光电子学进展 58.5(2021). |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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