变结构反应离子刻蚀腔室流场热场的数值仿真
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张景文; 范斌; 李志炜; 汉语 |
| 刊名 | 激光技术
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| 出版日期 | 2019-05-31 |
| 卷号 | 44期号:1页码:136-142 |
| 关键词 | 光学制造 反应离子刻蚀 变结构腔室 流热场分布 滑移区稀薄气体 数值模拟 |
| ISSN号 | 1001-3806 |
| DOI | 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2020.01.024 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 英文摘要 | 为了提高刻蚀的均匀性,对400mm反应离子刻蚀(RIE)腔室建立了气体流动的连续流体模型和热传递模型,研究了反应腔室内压强、流速和温度分布。冷却板恒温285K时,依次改变入口流量和出口压强,分别分析了腔室内部基片晶圆附近的流速、压强、温度的分布;依次改变极板间距离(30mm～60mm)、进气口直径(300mm～620mm)、抽气口直径(50mm～250mm),分析了反应腔室内气流和温度分布。结果表明,压强分布呈现出边缘低中心高的特征,流速呈现边缘高且中心低的特征,且在小流量时压强的均匀性较好;压强分布的均匀性随腔室极板间距离增加而有所提高,且随腔室气体出口面积减小与进口面积增加也有所提高;基片晶圆上方附近处温度场大面均匀、稳定,几乎不受入口流量波动变化的影响,热稳定性良好。该研究对大口径RIE腔室结构设计改进及对大口径反应离子刻蚀工艺控制具有重要意义。 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/9961]  |
| 专题 | 光电技术研究所_先光中心 |
| 通讯作者 | 范斌 |
| 作者单位 | 1.兰州理工大学能源与动力工程学院 2.中国科学院大学 3.电子科技大学光电科学与工程学院 4.中国科学院光电技术研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张景文,范斌,李志炜,等. 变结构反应离子刻蚀腔室流场热场的数值仿真[J]. 激光技术,2019,44(1):136-142. |
| APA | 张景文,范斌,李志炜,&汉语.(2019).变结构反应离子刻蚀腔室流场热场的数值仿真.激光技术,44(1),136-142. |
| MLA | 张景文,et al."变结构反应离子刻蚀腔室流场热场的数值仿真".激光技术 44.1(2019):136-142. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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