Analysis of High Field Q-Slope (HFQS) Causes and Development of New Chemical Polishing Acid
文献类型：会议论文
| 作者 | D. Luo; E.S. Metzgar; L. Popielarski; K. Saito; S.M. Shanab; G.V. Simpson |
| 出版日期 | 2019 |
| 会议日期 | 2019 |
| 会议地点 | Michigan |
| 会议录 | Proceedings of the North American Particle Accelerator Conference
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| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/289377]  |
| 专题 | 学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_NA-PAC |
| 作者单位 | FRIB, East Lansing, Michigan, USA |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | D. Luo,E.S. Metzgar,L. Popielarski,et al. Analysis of High Field Q-Slope (HFQS) Causes and Development of New Chemical Polishing Acid[C]. 见:. Michigan. 2019. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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