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Nd:YAG脉冲激光诱导化学沉积银

文献类型:期刊论文

作者孙克2; 赵岩1; 张彩碚2; 李正林1
刊名东北大学学报:自然科学版
出版日期2002
卷号23.0期号:004页码:391-393
关键词Nd:YAG脉冲激光 激光诱导化学沉积 选区化学镀 Si基底 硅基底 大规模集成电路
ISSN号1005-3026
其他题名Pulsed Nd: YAG Laser Induced Chemical Deposition of Ag
英文摘要Nd:YAG脉冲激光扫描照射射单晶Si基底表面AgNO3薄膜,薄膜热分解产生的Ag沉积在Si基底表面形成沉积线。在激光功率为2.8W,频率为35HZ时,最高扫描速度为9mm/s,SEM显示Ag颗粒均匀镶嵌在基底沉积线表面,AES研究沉积线表面元素随深度分布情况,以Ag颗粒为催化为中心,在沉积线表面选区化学镀铜,超声振动显示镀铜膜与基底有良好的结合力,简单分析了沉积线表面Ag颗粒形状及表面凹坑出现的原因。
语种中文
CSCD记录号CSCD:982053
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/89854]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
作者单位1.中国科学院金属研究所
2.东北大学
推荐引用方式
GB/T 7714
孙克,赵岩,张彩碚,等. Nd:YAG脉冲激光诱导化学沉积银[J]. 东北大学学报:自然科学版,2002,23.0(004):391-393.
APA 孙克,赵岩,张彩碚,&李正林.(2002).Nd:YAG脉冲激光诱导化学沉积银.东北大学学报:自然科学版,23.0(004),391-393.
MLA 孙克,et al."Nd:YAG脉冲激光诱导化学沉积银".东北大学学报:自然科学版 23.0.004(2002):391-393.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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