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激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构

文献类型:期刊论文

作者张炳春; 李梅; 王亚庆; 冯钟潮
刊名材料研究学报
出版日期1998
卷号12.0期号:006页码:663-664
关键词激光 化学气相反应 薄膜 Ti(C,N) 微观结构
ISSN号1005-3093
英文摘要运用XRD,EPMA,TEM等手段分析在Ti-6Al-4V基材上用激光化学气相色反应生长的Ti(C,N)薄膜的成分,结构,显微结构,可在基材表面的形成大面积均匀的Ti(C,N)膜层,为无明显择优取向的等轴纳米晶,其中有少量的Ti2N相,且Al,V含量低于基材。
语种中文
CSCD记录号CSCD:426130
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/90039]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
作者单位中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张炳春,李梅,王亚庆,等. 激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构[J]. 材料研究学报,1998,12.0(006):663-664.
APA 张炳春,李梅,王亚庆,&冯钟潮.(1998).激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构.材料研究学报,12.0(006),663-664.
MLA 张炳春,et al."激光化学气相反应生长Ti(C,N)薄膜的成分及微观结构".材料研究学报 12.0.006(1998):663-664.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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