掠射角溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王美涵2; 温佳星2; 陈昀2; 雷浩1 |
| 刊名 | 无机材料学报
 |
| 出版日期 | 2018 |
| 卷号 | 33.0期号:012页码:1303-1308 |
| 关键词 | 氧化钨薄膜 纳米结构 掠射角 磁控溅射 |
| ISSN号 | 1000-324X |
| 其他题名 | Nano-structured WO3 Thin Films Deposited by Glancing Angle Magnetron Sputtering |
| 英文摘要 | 采用掠射角反应磁控溅射法在室温下沉积了纳米结构氧化钨(WO3)薄膜,并对薄膜进行热处理。利用场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线衍射仪(XRD)对氧化钨薄膜的形貌和结构进行了表征。当掠射角度为80?时,采用直流电源沉积的氧化钨薄膜具有纳米斜柱状结构,而采用脉冲直流电源沉积的薄膜呈现纳米孔结构。纳米薄膜经450℃热处理3h后,纳米斜柱彼此连接,失去规整结构,而纳米孔结构的孔尺寸变大。XRD分析表明室温沉积的氧化钨薄膜具有无定形结构,经450℃热处理1h后,转变为单斜晶相。具有纳米斜柱状或纳米孔结构氧化钨薄膜的光学调制幅度在波长600nm时达到60%,且电致变色性能可逆。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:6397724 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/141578]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 1.中国科学院金属研究所 2.沈阳大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王美涵,温佳星,陈昀,等. 掠射角溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜[J]. 无机材料学报,2018,33.0(012):1303-1308. |
| APA | 王美涵,温佳星,陈昀,&雷浩.(2018).掠射角溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜.无机材料学报,33.0(012),1303-1308. |
| MLA | 王美涵,et al."掠射角溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜".无机材料学报 33.0.012(2018):1303-1308. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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