纳米孪晶纯铜的强度和导电性研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 卢柯 |
| 刊名 | 中国科学院院刊
 |
| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 19.0期号:005页码:352-354 |
| 关键词 | 孪晶 纯铜 沉积技术 金属材料 高导电性 室温电导率 高强度 纳米尺寸 拉伸强度 研究 |
| ISSN号 | 1000-3045 |
| 其他题名 | A Study on Ultrahigh Strength and High Electrical Conductivity in Copper |
| 英文摘要 | 强度和导电性是金属材料两个至关重要的性能，但往往顾此失彼，不可兼得。本研究提出利用纳米尺寸孪晶实现金属强化，以期获得高强度和高导电性。实验采用脉冲电解沉积技术制备出具有高密度纳米尺寸孪晶的纯铜薄膜，其拉伸强度达1068MPa，是普通纯铜的10倍以上，并且室温电导率与无氧高导铜相当(97％IACS)。系统研究了孪晶片层厚度对样品性能的影响。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:1882108 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/143592]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 卢柯. 纳米孪晶纯铜的强度和导电性研究[J]. 中国科学院院刊,2004,19.0(005):352-354. |
| APA | 卢柯.(2004).纳米孪晶纯铜的强度和导电性研究.中国科学院院刊,19.0(005),352-354. |
| MLA | 卢柯."纳米孪晶纯铜的强度和导电性研究".中国科学院院刊 19.0.005(2004):352-354. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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