黄铜在BTA中形成的表面膜特性
文献类型：期刊论文
| 作者 | 贺春林2; 韩文安1; 孙秋霞2 |
| 刊名 | 东北大学学报：自然科学版
 |
| 出版日期 | 1996 |
| 卷号 | 17.0期号:005页码:525-528 |
| 关键词 | 黄铜 化学转化膜 苯并二氮唑 表面膜 缓蚀剂 |
| ISSN号 | 1005-3026 |
| 英文摘要 | 利用伏安法，椭圆偏振法和ＸＰＳ法对黄铜在ＢＴＡ中形成的表面化学转化膜的成分，结构，厚度及导电性进行了结果表明，表面膜层属半导体，膜易被击穿，膜层为双层结构，即黄铜／Ｃｕ２Ｏ／Ｃｕ（Ｉ）ＢＴＡ膜。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:294412 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/143751]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 1.中国科学院金属研究所 2.东北大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 贺春林,韩文安,孙秋霞. 黄铜在BTA中形成的表面膜特性[J]. 东北大学学报：自然科学版,1996,17.0(005):525-528. |
| APA | 贺春林,韩文安,&孙秋霞.(1996).黄铜在BTA中形成的表面膜特性.东北大学学报：自然科学版,17.0(005),525-528. |
| MLA | 贺春林,et al."黄铜在BTA中形成的表面膜特性".东北大学学报：自然科学版 17.0.005(1996):525-528. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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