电弧离子镀Ti（CxN1—x）薄膜的结构和力学性能研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李明升; 王福会; 孙超; 蒋长荣; 闻立时 |
| 刊名 | 材料保护
 |
| 出版日期 | 2002 |
| 卷号 | 35.0期号:012页码:10-12 |
| 关键词 | 电弧离子镀 Ti（CxN1－x）薄膜 结构 力学性能 研究 电弧 |
| ISSN号 | 1001-1560 |
| 英文摘要 | 利用电弧离子镀设备，沉积了不同C、N比的Ti(CxN1-x)薄膜，研究了C含量对Ti(CxN1-x)薄膜的结构（相结构、择优取向及晶格常数）及力学性能（硬度、膜基结合强度及抗磨损性能）的影响。结果表明，复合镀层的C、N比随CH4、H2流量之比而变化，但原子百分数之和基本不变（约46.5%)。复合镀层结构致密，与基体结合良好，抗磨和切削性能优于TiC和TiN镀层。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:1030085 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/144260]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李明升,王福会,孙超,等. 电弧离子镀Ti（CxN1—x）薄膜的结构和力学性能研究[J]. 材料保护,2002,35.0(012):10-12. |
| APA | 李明升,王福会,孙超,蒋长荣,&闻立时.(2002).电弧离子镀Ti（CxN1—x）薄膜的结构和力学性能研究.材料保护,35.0(012),10-12. |
| MLA | 李明升,et al."电弧离子镀Ti（CxN1—x）薄膜的结构和力学性能研究".材料保护 35.0.012(2002):10-12. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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