纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李亚利; 梁勇; 佟百运; 郑丰; 马贤峰; 崔硕景; 赵伟 |
| 刊名 | 材料研究学报
 |
| 出版日期 | 1997 |
| 卷号 | 11.0期号:005页码:473-478 |
| 关键词 | 纳米材料 陶瓷材料 非晶 烧结 激光法 |
| ISSN号 | 1005-3093 |
| 英文摘要 | 用六面顶超高压在１．０－５．０ＧＰａ，２５－１５００℃条件下烧结激光法制备的纳米非晶Ｓｉ３Ｎ４粉，有“冷烧结”特性。表现为：在５ＧＰａ，室温下压制的块体密度达理论值的９３％，这是高压下纳米粒子产生流变的结果。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:360949 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/144688]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李亚利,梁勇,佟百运,等. 纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结[J]. 材料研究学报,1997,11.0(005):473-478. |
| APA | 李亚利.,梁勇.,佟百运.,郑丰.,马贤峰.,...&赵伟.(1997).纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结.材料研究学报,11.0(005),473-478. |
| MLA | 李亚利,et al."纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结".材料研究学报 11.0.005(1997):473-478. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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